Sasaran titanium

Kesucian
Kesucian adalah salah satu petunjuk prestasi utama sasaran, kerana kesucian sasaran mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi filem. Walau bagaimanapun, dalam aplikasi praktikal, keperluan kesucian untuk sasaran tidak sama. Sebagai contoh, dengan perkembangan pesat industri mikroelektronik, saiz cip silikon telah dibangunkan dari 6 ", 8" hingga 12 ", manakala lebar pendawaian telah dikurangkan dari 0. Keperluan proses 0. 35umic.
Kandungan kekotoran
Kekotoran dalam sasaran pepejal dan oksigen dan wap air dalam liang adalah sumber pencemaran utama filem yang didepositkan. Sasaran untuk tujuan yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran yang berbeza. Sebagai contoh, sasaran aloi aluminium dan aluminium tulen yang digunakan dalam industri semikonduktor mempunyai keperluan khusus untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Ketumpatan
Untuk mengurangkan keliangan dalam sasaran pepejal dan meningkatkan prestasi filem sputtered, sasaran biasanya diperlukan untuk mempunyai ketumpatan yang tinggi. Ketumpatan sasaran bukan sahaja mempengaruhi kadar sputtering, tetapi juga mempengaruhi sifat elektrik dan optik filem. Semakin tinggi ketumpatan bahan sasaran, lebih baik prestasi filem. Di samping itu, meningkatkan ketumpatan dan kekuatan sasaran menjadikan sasaran lebih baik dapat menahan tekanan terma semasa sputtering. Ketumpatan juga merupakan salah satu indeks prestasi utama bahan sasaran.