PVD Multi{0}}Arka Bahan Sputtering Titanium

Sasaran sputtering titanium berbilang-salutan arka PVD ialah bahan utama yang digunakan dalam-proses penyaduran ion arka berbilang dalam teknologi pemendapan wap fizikal (PVD). Mereka terutamanya menggunakan nyahcas arka elektrik untuk menyejat dan mengionkan sasaran titanium-ketulenan tinggi, membentuk ion logam yang dimendapkan pada permukaan substrat, sekali gus menghasilkan filem titanium atau titanium yang padat, sangat pelekat. Proses ini digunakan secara meluas dalam semikonduktor, panel paparan, pengukuhan alat, dan salutan hiasan.

I. Ciri Teras PVD Multi{1}}Arc Coating Titanium Sputtering Sasaran

Keperluan Ketulenan Tinggi: Ketulenan sasaran sputtering titanium secara langsung mempengaruhi kualiti filem. Aplikasi perindustrian biasanya memerlukan kandungan titanium Lebih besar daripada atau sama dengan 99.6%, manakala aplikasi gred-separa pengalir memerlukan 5N (99.999%) atau bahkan 6N, dengan kekotoran dikawal ke tahap ppb untuk mengelakkan kegagalan migrasi elektro.

Sifat Fizikal Cemerlang:
Ketumpatan: Ketumpatan teori ialah 4.51 g/cm³. Ketumpatan tinggi mengurangkan keliangan, meningkatkan kecekapan sputtering, dan meningkatkan keseragaman filem.

Sifat Fizikal Cemerlang: Saiz butiran: Bijirin halus dan teragih seragam ( Kurang daripada atau sama dengan 50μm) menyumbang kepada mendapatkan lapisan filem licin, memenuhi keperluan peranti-tinggi untuk kerataan filem nipis.

Kekonduksian terma dan kestabilan mekanikal yang baik: Sasaran sputtering titanium mesti menahan pengeboman arka-suhu tinggi, mempunyai kekonduksian terma yang baik dan rintangan kepada keretakan tegasan haba, memastikan operasi yang stabil dalam tempoh yang lama.

Memilih sasaran sputtering titanium yang betul untuk salutan berbilang{0}}arka PVD bergantung pada parameter teras yang sepadan seperti ketulenan, ketumpatan, saiz butiran, keseragaman mikro dan keserasian proses kepada senario aplikasi tertentu. Keperluan prestasi berbeza dengan ketara merentas bidang yang berbeza, termasuk semikonduktor, optik, pengukuhan alat dan salutan hiasan, yang memerlukan pemilihan yang disasarkan.

I. Pembuatan Semikonduktor (Ketulenan Tinggi Diutamakan)

Keperluan Ketulenan: Lebih daripada atau sama dengan 99.995% (4N5), proses-tinggi memerlukan Lebih daripada atau sama dengan 99.999% (5N), kekotoran seperti Fe, O dan C dikawal dalam 1–30 ppm, unsur radioaktif seperti uranium dan torium di bawah 0.01 ppm.

Kawalan Ketumpatan dan Kecacatan: Ketumpatan Lebih daripada atau sama dengan 99.5%, mengurangkan keliangan dan kemasukan, mengelakkan pencemaran wafer semasa sputtering.

Keseragaman Bijian: Saiz butiran Kurang daripada atau sama dengan 50μm, sisihan taburan kurang daripada 20%, memastikan ketekalan ketebalan filem dan memenuhi keperluan pendawaian skala nano.

Aplikasi Biasa: Digunakan untuk mendepositkan lapisan penghalang TiN dan lapisan sentuhan TiSi₂ untuk menghalang penyebaran tembaga dan meningkatkan kebolehpercayaan peranti.

II. Peranti Optik dan Paparan (Keseragaman Tinggi + Kekasaran Rendah)

Jenis Sasaran: Sasaran titanium tulen atau sasaran TiO₂ boleh digunakan untuk bertindak balas dan menghasilkan filem nipis TiO₂ dalam suasana oksigen.

Kualiti Permukaan: Kekasaran permukaan Kurang daripada atau sama dengan 0.1μm, bebas daripada rekahan dan liang, sesuai untuk keperluan salutan berketepatan tinggi-.

Ciri-ciri Filem: Menggunakan indeks biasan tinggi dan sifat fotomangkin TiO₂, filem anti-pantulan, kaca pembersih-sendiri dan komponen optik AR/VR boleh disediakan.

Parameter Proses: Kawalan tepat kadar aliran oksigen dan kuasa diperlukan untuk mengelakkan sisa titanium atau filem berliang.

III. Pengukuhan Alat dan Acuan (Kekerasan Tinggi + Rintangan Haus)

Jenis Salutan: Meningkatkan kekerasan permukaan (sehingga 2000–3000 HV) dan rintangan haba alat pemotong melalui salutan komposit seperti TiN, TiCN dan TiAlN.

Prestasi Bahan Sasaran: Ketulenan yang rendah sedikit dibenarkan ( Lebih daripada atau sama dengan 99.6%), tetapi kekonduksian terma yang baik dan rintangan kejutan haba yang kuat diperlukan untuk menahan suhu tinggi nyahcas berbilang{1}}arka.

Kesan Praktikal: Salutan boleh memanjangkan hayat alat sebanyak 3–5 kali, sesuai untuk keadaan yang teruk seperti pemotongan kering dan pemesinan-tinggi.

IV. Salutan Hiasan (Warna Boleh Kawal + Kos Sederhana)

Kawalan Warna: Sasaran titanium bertindak balas dengan nitrogen untuk menghasilkan-salutan TiN kuning keemasan; melaraskan nisbah gas boleh menghasilkan emas mawar (TiCN), biru atau ungu (warna gangguan TiO₂).

Pertimbangan Kos: Sasaran titanium tulen 99.6% boleh digunakan, mengurangkan kos bahan sementara masih memenuhi keperluan salutan untuk bahagian luaran.

Aplikasi: Digunakan secara meluas untuk rawatan permukaan jam tangan, sarung telefon bimbit, bahagian perkakasan, aksesori bilik mandi, dll.